产品介绍

PRODUCTS

CDO 机台产品概观

型号:863LRA


专利技术,低成本的F2处理技术可以有效控制腐蚀

  • 专利技术的射汽法可有效去除有腐蚀性的F2


高稳定性—MTBC

  • 全球大量的安装量证实了设备的运行性能

  • N2套管进口设计防止堵塞

  • 反应室清洁机制(RCCM)可以有效的去除微粒


客户的低经营成本

  • 对水的消耗低达0.3加仑/分钟(gpm)

  • 特殊的耐腐蚀材料提高了部件的使用寿命


应用制程目标

  • 含有气体NF3/F2清洗反应室的化学气相沉积(CVD)



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